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江苏先丰纳米材料科技有限公司

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小片径单层二硫化钼分散液 浓度 0.1 mg/ml (送原液)

小片径单层二硫化钼分散液 浓度 0.1 mg/ml (送原液)
  • 品牌:先丰纳米
  • 产地:江苏
  • 关注度:2109
  • 型号:100919
  • 报价:面议
  • 信息完整度:
核心参数
  • 纯度:﹥=90wt%
  • 目数:20-500 nm
  • 品级:一级
产品介绍

货号CAS号编号包装参数
1009197440-33-7XF139200 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 水
1009207440-33-7XF139500 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 水
1009217440-33-7XF139200 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 乙醇
1009227440-33-7XF139500 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 乙醇

产品名称

中文名称: 小片径单层二硫化钼分散液 浓度 0.1 mg/ml

英文名称:Single Layer Nano MoS2 Dispersion  0.1 mg/mL

 性质

片径:20-500 nm

厚度:~1 nm

单层率:﹥=90wt%

备注:XF139是由XF137超声制备,分散性一般;1T-2H杂化相,1T比例约为60%左右,不同批次间可能有差异。

 应用

生物分子分离、构建磁性纳米药物等。

 其他信息

石墨烯二硫化钼是由六方晶系的单层或多层二硫化钼组成的具有“三明治夹心”层状结构的二维晶体材料,在润滑剂、催化、能量存储、复合材料等众多领域应用广泛。先丰目前可以提供高品质的单层MoS2粉末以及分散液,片径小,单层率高,通过TEM、SEM和AFM的表征显示,MoS2的厚度90%以上都是单层结构。

4℃冷藏密封保存,*长保存期限为开封前3个月,开封后建议1个月用完。每次开封后用Ar/N2气鼓泡处理




小片径少层二硫化钼分散液 浓度0.1 mg/mL(送原液)

货号CAS号编号包装参数
1008631317-33-5XF160200 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 水
1008641317-33-5XF160500 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 水
1008981317-33-5XF160200 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 乙醇
1008991317-33-5XF160500 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 乙醇

产品名称

中文名称:小片径少层二硫化钼分散液 浓度0.1mg/mL

英文名称:Few Layers  Nano MoS2 Suspension 0.1 mg/mL

 性质 

片径:0.02-1 μm

厚度:1-8 nm

浓度: 0.1mg/mL

溶剂:水或乙醇

稳定剂:LiOH

备注:XF160是由XF158超声制备,分散性一般;1T-2H杂化相,1T比例约为60%左右,不同批次间可能有差异。

 应用

润滑剂、催化、能量存储、复合材料等领域。

 其他信息

储存条件

4℃冷藏避光密封保存,*长保存期限为开封前3个月,开封后建议1个月用完。每次开封后用Ar/N2气鼓泡保存。




小片径少层二硫化钼分散液 浓度1 mg/mL

货号CAS号编号包装参数
1008611317-33-5XF159200 ml浓度: 1mg/ml,溶剂: 水,稳定剂:LiOH
1008621317-33-5XF159500 ml浓度: 1mg/ml,溶剂: 水,稳定剂:LiOH
1013521317-33-5XF159200 ml浓度: 1mg/ml,溶剂: 乙醇,稳定剂:LiOH
1013531317-33-5XF159500 ml浓度: 1mg/ml,溶剂: 乙醇,稳定剂:LiOH

产品名称

中文名称:小片径少层二硫化钼分散液 浓度1 mg/mL

英文名称:Few Layers  Nano MoS2 Suspension 1 mg/mL

 性质 

片径:0.02-1 μm

层数:1-10层

厚度:1-8 nm

浓度:1 mg/mL

溶剂:水或乙醇

稳定剂:LiOH

备注:片径、层数和厚度均由XF159表征得到;1T-2H杂化相,1T比例约为60%左右,不同批次间可能有差异。

 应用

润滑剂、催化、能量存储、复合材料等领域。

 其他信息

储存条件

4℃冷藏避光密封保存,*长保存期限为开封前3个月,开封后建议1个月用完。每次开封后用Ar/N2气鼓泡保存。




少层二硫化钼分散液 浓度0.1 mg/mL(送原液)

货号CAS号编号包装参数
1008171313-27-5XF142200 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 水
1008181313-27-5XF142500 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 水
1009111313-27-5XF142200 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 乙醇
1009121313-27-5XF142500 ml浓度: 0.1mg/ml, 溶剂: 乙醇

产品名称

中文名称:少层二硫化钼分散液 浓度0.1 mg/mL

英文名称:Few Layers Mlybdenum Disulfide Dispersion 0.1 mg/mL

 性质 

片径:0.2-5 μm

层数:1-10

厚度:1-8 nm

浓度:1 mg/mL

溶剂:水或乙醇

稳定剂: LiOH

备注:XF142是由XF140超声制备,分散性一般;1T-2H杂化相,1T比例约为60%左右,不同批次间可能有差异。

 应用

润滑剂、催化、能量存储、复合材料等领域。




少层二硫化钼分散液 浓度1 mg/mL

货号CAS号编号包装参数
1008151313-27-5XF141200 ml浓度:1mg/ml,溶剂:水,稳定剂:LiOH
1008161313-27-5XF141500 ml浓度:1mg/ml,溶剂:水,稳定剂:LiOH
1013541313-27-5XF141200 ml浓度:1mg/ml, 溶剂:乙醇,稳定剂LiOH
1013551313-27-5XF141500 ml浓度:1mg/ml,溶剂:乙醇,稳定剂:LiOH

产品名称

中文名称:少层二硫化钼分散液 浓度1 mg/mL

英文名称:Few Layers Mlybdenum Disulfide Dispersion 1 mg/mL

 性质 

片径:0.2-5 μm

层数:1-10

厚度:1-8 nm

浓度:1 mg/mL

溶剂:水或乙醇

稳定剂: LiOH

备注:片径、层数和厚度均由XF141表征得到;1T-2H杂化相,1T比例约为60%左右,不同批次间可能有差异。

 应用

润滑剂、催化、能量存储、复合材料等领域。

 其他信息

储存条件

4℃冷藏避光密封保存,*长保存期限为开封前3个月,开封后建议1个月用完。每次开封后用Ar/N2气鼓泡保存。




小片径单层二硫化钼分散液 浓度1 mg/mL

货号CAS号编号包装参数
1008111317-33-5XF138200 ml浓度:1mg/ml,溶剂:水,稳定剂:LiOH
1008121317-33-5XF138500 ml浓度::1mg/ml,溶剂:水,稳定剂:LiOH
1013501317-33-5XF138200 ml浓度:1mg/ml,溶剂:乙醇,稳定剂:LiOH
1013511317-33-5XF138500 ml浓度:1mg/ml,溶剂:乙醇,稳定剂:LiOH

产品名称

中文名称:小片径单层二硫化钼分散液

英文名称:Single Layer Nano MoS2 Dispersion

 性质 

片径: 20-500 nm

单层率:≥90%

厚度:~1 nm

浓度:1 mg/mL

溶剂:水或乙醇

稳定剂:LiOH

备注:1T-2H杂化相,1T比例约为60%左右,不同批次间可能有差异。

 应用

润滑剂、催化、能量存储、复合材料等领域。




少层二硫化钼粉末(送原液)

货号CAS号编号包装参数
1007931313-27-5XF140500 mg片径:0.2-5 μm, 厚度:1-8 nm
1007941313-27-5XF1401 g片径:0.2-5 μm, 厚度:1-8 nm

产品名称

中文名称:少层二硫化钼粉末

英文名称:Few Layers MoS2 Powder

 性质 

片径:0.2-5 μm

层数:1-10

厚度:1-8 nm

稳定剂: LiOH

备注:XF140是由XF141冷干得到的粉末;1T-2H杂化相,1T比例约为60%左右,不同批次间可能有差异。

 应用

润滑剂、催化、能量存储、复合材料等领域。

 其他信息

储存条件

常温干燥避光密封保存,开封前*长保存期限1年。




小片径单层二硫化钼纳米片粉末(送原液)

货号CAS号编号包装参数
1007911313-27-5XF137500 mg片径: 20-500 nm, 厚度: ~1nm
1007921313-27-5XF1371 g片径: 20-500 nm, 厚度: ~1nm

产品名称

中文名称:小片径单层二硫化钼纳米片粉末

英文名称:Single Layer MoS2 Nano Powder

 性质 

片径:20-500 nm

厚度:~1nm

单层:≥90%

形态:黑色粉末

备注:XF137是由XF138冷干得到的粉末;1T-2H杂化相,1T比例约为60%左右,不同批次间可能有差异。

 应用

NA


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企业名称

江苏先丰纳米材料科技有限公司

企业类型

信用代码

913201065628687681

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注册资本

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